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钼离子注入

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等离子体浸没式离子注入离子束增强沉积(PIIIIBAD)

Plasma immersion ion implantation-ion beam assisted deposition (PIII-IBAD

离子注入-离子植入

ion concentration

invisible range

分子离子注入

molecular ion injection

Ag离子注入

silver ion implantation

Al离子注入

Al ion implantation

Ar离子注入

Ar ion implanted

C(+)离子注入

C(+) implantation

C+Ti双离子注入

C+Ti dual ion implantation

C+W+C双重离子注入

Tungsten plus carbon multi-implantation

Cr离子注入

Cr(superscript +) implantion

Cu离子注入

Cu ion implantation

copper ion implantation

C离子注入

C-ion implantation

Er离子注入硅

Er ion implanted Si

Fe离子注入

Fe ion implantation

F离子注入和势垒层腐蚀

F ions implantation and etching of barrier layer

He离子注入

He ion implantation

Silicon

conductiv ity modulation

InSb离子注入

InSb ion implantation

MEVVA源离子注入

ion implantation by MEVVA source

MeV级3He离子注入

MeV level He implantation